Вакуумный универсальный пост ВУП-5, ВУП-5М

Описание

Вакуумный универсальный пост ВУП-5М предназначен для получения пленок из различных материалов с высокой производительностью методом магнетронного распыления, а также для подготовки объектов, исследуемых с помощью электронного микроскопа или других аналитических приборов.
Прибор может быть применен для исследований в области физики, химии, биологии, медицины и других областях нayки и техники.
Прибор предназначен для эксплуатации в стационарных лабораторных условиях при температуре окружающего воздуха от 15 до 25 °С и относительной влажности не более 80 % . Наличие в помещении агрессивных паров недопустимо.
3 ТЕХНИЧЕСКИЕ ДАННЫЕ
3.1 Технические данные
3.1.1 Питание прибора осуществляется от трехфазной сети переменного тока напряжением 220/380 V, частотой 50 Нz .
3.1.2 Масса прибора, кg , не более 300
3.1.3 Габаритные размеры, mm, не более :
длина 540
ширина 910
высота 1550
3.1.4 Потребляемая мощность без приставок, кVA, не более 1,9. Максимальная потребляемая мощность, к\/А, не более 5.
3.2 Основные параметры и характеристики
3.2.1 Остаточное давление в высоковакуумном объеме , Pa, 310-4 .
3.2.2 Ток накала испарителей, А, I – 200, II – 100 .
3.2.3 Температура столика для нагрева объектов 1100 °С.
3.2.4 Температура столика для охлаждения объектов, °С, минус 150 .
3.2.5 Напряжение на выходе высоковольтного выпрямителя, к V, 7.
3.2.6 Максимальный ток тлеющего разряда, m A, 50 .
3.2.7 Максимальное напряжение на выходе высоковольтного выпрямителя источника питания магнетрона, кV, не менее 0,9.
3.2.8 Максимальный ток магнетрона, mА, не менее 300.
3.2.9 Температура в районе подложки устройства для осаждения пленок не менее 300 °С. Время нагрева не бо¬лее 30 min.

3.2.10 Время смены подложек не более 7 s , скорость вращения подложек не менее 0,5 s –1 .
3.2.11 Заслонка устройства смены подложек обеспечивает перекрытие потока испаряемого вещества от испарителя к подложкам .
3.2.12 Устройство дискретного испарения обеспечивает подачу на испаритель в процессе испарения измельченного вещества.
3.2.13 С помощью пультов управления обеспечивается выход в рабочий режим вакуумной системы из холодного состояния и коммутация вакуумной системы во время работы.