Вакуумний універсальний пост Вуп-5, Вуп-5М

Опис

Напилення матеріалів у вакуумі
1. Вакуумні універсальні пости ВУП-5 та ВУП-5М. Постачання, монтаж та введення в експлуатацію. Ремонт, модернізація обладнання. Широкий асортимент додаткового обладнання та витратних матеріалів представлених у розділі «Аксесуари».
2. ПРИЗНАЧЕННЯ
2.1 Вакуумний універсальний пост ВУП-5М призначений для отримання плівок з різних матеріалів з високою продуктивністю методом магнетронного розпилення, а також для підготовки об'єктів, які досліджуються за допомогою електронного мікроскопа або інших аналітичних приладів. Прилад може бути застосований для досліджень в галузі фізики, хімії, біології, медицини та інших галузях науки і техніки. Прилад призначений для експлуатації в стаціонарних лабораторних умовах за температури навколишнього повітря від 15 до 25 °С та відносної вологості не більше 80 % . Наявність у приміщенні агресивних пар неприпустима.
3 ТЕХНІЧНІ ДАНІ
3.1 Технічні дані
3.1.1 Живлення приладу здійснюється від трифазної мережі змінного струму напругою 220/380 V, частотою 50 Нz .
3.1.2 Маса приладу, кg, не більше 300
3.1.3 Габаритні розміри, mm, не більше: довжина 540 ширина 910 висота 1550
3.1.4 Потужність, що споживається без приставок, кVA, не більше 1,9. Максимальна споживана потужність, к/А, не більше 5.
3.2 Основні параметри та характеристики
3.2.1 Залишковий тиск у високовакуумному обсязі, Pa, 3х10-4.
3.2.2 Струм розжарення випарників, А, I – 200, II – 100 .
3.2.3 Температура столика нагріву об'єктів 1100 °С.
3.2.4 Температура столика для охолодження об'єктів, °С, мінус 150°.
3.2.5 Напруга на виході високовольтного випрямляча, до V, 7.
3.2.6 Максимальний струм розряду, що тліє, m A, 50 .
3.2.7 Максимальна напруга на виході високовольтного випрямляча джерела живлення магнетрону, кV не менше 0,9.
3.2.8 Максимальний струм магнетрону, mА, не менше 500.
3.2.9 Температура в районі підкладки пристрою для осадження плівок не менше ніж 300 °С. Час нагріву трохи більше 30 min.
3.2.10 Час зміни підкладок трохи більше 7 s , швидкість обертання підкладок щонайменше 0,5 s –1 .
3.2.11 Заслінка пристрою зміни підкладок забезпечує перекриття потоку речовини , що випаровується від випарника до підкладок .
3.2.12 Пристрій дискретного випаровування забезпечує подачу на випарник у процесі випаровування подрібненої речовини.
3.2.13 За допомогою пультів керування забезпечується вихід у робочий режим вакуумної системи з холодного стану та комутація вакуумної системи під час роботи.