Система выравнивания плитки, основание 1.5мм/100шт INTERTOOL KT-4952

Описание

Основа для систем выравнивания плитки (СВП) KT-4952 это материал для одноразового использования, устанавливаемый между плитками во время их укладки. Толщина оснований составляет 1.5 мм, что позволяет создавать идеальные межплиточные швы соответствующей ширины. В ассортименте также имеются основы толщиной 1 мм (KT-4951), и 2 мм (KT-4953). Поставляются упаковками по 100 шт. Особенности СВП
Использование систем выравнивания плитки обеспечивает максимально ровную плоскость поверхности, предотвращая перепады и проседания на стыках плиток, а также значительно повышает производительность мастера. Однако, так как СВП это совокупность специальных приспособлений, для полноценного использования также понадобится: Клин
Элемент, который плотно вгоняется в основу специальным ключом или вручную, после чего плоскость плиток выравнивается. Изготовлены из пластика, поэтому вероятность повреждения поверхности полностью исключена. Поставляются упаковкой 50 шт. - KT-4950. Ключ для монтажа СВП
Ключ KT-4960 изготовлен из оцинкованного металла, предназначен для облегчения процесса фиксации клиньев. Уменьшает усталость рук при больших объемах работ, а также позволяет ограничить усилие применяемое на клин. Для защиты плитки, в местах соприкосновения с поверхностью, ключ прорезинен. Инструкция по использованию СВП
1. На поверхность наносится клей или раствор, с помощью уровня укладывается первая плитка.
2. Область у краев плитки очищается от излишков раствора, чтобы его не выдавило в шов.
3. Под плитку вставляются основы по 2 с каждой стороны, отступив около 30-50 мм от угла плитки.
4. Укладывается соседняя плитка, плоскость выравнивается, после чего в основу вставляется клин, фиксируя смежные плитки.
5. Для идеального выравнивания затянуть клин вручную или с помощью ключа.
6. СВП удаляется после застывания клеевого раствора. Для этого необходимо ударить в торец основы киянкой или молотком. Вертикальная часть основы откалывается и удаляется, а клин готов к повторному использованию.